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硬質(zhì)氧化設備與普通陽極氧化設備有什么不同？
1、溫度不同：普通18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。
2、濃度差異：普通氧化一般20%左右，硬質(zhì)一般在15%或更低。
3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-3A/dm2。以上是操作條件方面的差異。下面面說下膜層性能方面的差異：
1、膜層厚度：硬質(zhì)氧化一般膜層厚度＞15μｍ，過低達不到硬度的要求，而普通氧化厚度則相對較薄。
2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較平整，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙。
3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高，而硬質(zhì)氧化孔隙率低。
4、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主，而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。
佛山市開立機械設備有限公司對鋁氧化設備安裝經(jīng)驗豐富；設計安裝：鋁型材氧化、電泳生產(chǎn)線、環(huán)保設備、物流輸送，非標自動化設備。工程配件齊全、價格合理。
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