硬質陽極氧化設備處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類也較多，以采用硫酸硬質陽極氧化處理較普遍。采用硫酸硬質陽極氧化法時，應考慮影響氧化膜層的各因素。

(1)硫酸氧化處理的濃度：常采用200～250g/L，槽液的相對密度(室溫下)為1.12～1.15。

(2)水：水是硬質陽極氧化處理的主要成分，一般采用蒸餾水或冷開水，而不用自來水，因為自來水中含有氯離子，當Cl一>1％時，其制件在氧化過程中就會腐蝕，并出現白斑。

(3)氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質量的重要因素之一。嚴格控制溫度，其氧化膜增厚，硬度提高且光滑、致密。

(4)電流密度：電流也是影響氧化膜質量的重要因素之一，它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關系。電流密度過低時，氧化膜的生成速度緩慢，處理時間增加；反之，過高時，會導致溶液和電極因焦耳效應而過熱，使氧化膜溶解速度增加，硬度下降，表面粗糙、疏松起粉。

(5)初始電壓與處理時間：硬質陽極氧化處理的初始電壓與時間對氧化膜質量的影響也是很大的。初始的電壓過大，會導致電流的增加，焦耳熱和生成熱劇增，促使溶解速度猛增，氧化膜則軟，無光澤，起粉，不耐磨。對于氧化處理時間，一般是隨著氧化處理時間的延長，氧化膜厚度增加，但到一定時間后，若不增加外加電壓，氧化膜實際不增加。如果繼續延長時間，則氧化膜硬度低，疏松起粉。相反，氧化處理時間太短，氧化膜厚度薄且不耐磨。

(6)氧化處理溶液的攪拌：攪拌速度大小與氧化膜生成速度(氧化膜質量)有關。